توضیحات
Kinetic Studies in GeO2/Ge System: A Retrospective from 2021 investigates reaction kinetics in GeO2/Ge systems, aiming to demonstrate the fundamentals of the GeO2/Ge interface and to give insight into the distinctive features and performance of Ge (germanium) applied to advanced complementary metal oxide semiconductor (CMOS) devices.
This book first reviews the development of MOS technology and discusses the potentials of emerging Ge and the challenges facing it as a contentious channel material, once promising to replace Si (silicon) for advanced nodes. The study systematically analyzes the following aspects of GeO2/Ge stacks that will shed light on the characteristics and reaction principles of the system: GeO2/Ge degradation, Ge passivation techniques, desorption kinetics of GeO from GeO2/Ge, the relationship between GeO2 crystallization and GeO2/Ge interface reaction, and the oxidation kinetics of Ge. Based on findings from the intrinsic properties of GeO2/Ge, the author also compares it with prevalent SiO2/Si systems and demonstrates the essential differences between the two, contributing to quality control, process optimization, and technology advancements of GeO2/Ge.
The book will be a useful reference for researchers, professionals, and students interested in electronic materials, condenser matter physics, microelectronic engineering, and semiconductors.
————————————————————–
ترجمه ماشینی :
مطالعات جنبشی در سیستم GeO2/Ge: یک گذشته نگر از سال 2021 به بررسی سینتیک واکنش در سیستمهای GeO2/Ge میپردازد، با هدف نشان دادن مبانی رابط GeO2/Ge و ارائه بینشی در مورد ویژگیهای متمایز و عملکرد Ge (ژرمانیوم) اعمال شده در سیستمهای پیشرفته. دستگاه های نیمه هادی اکسید فلزی مکمل (CMOS). این کتاب ابتدا توسعه فناوری MOS را بررسی میکند و پتانسیلهای Ge در حال ظهور و چالشهای پیش روی آن را بهعنوان یک ماده کانالی بحثبرانگیز مورد بحث قرار میدهد، که زمانی وعده جایگزینی Si (سیلیکون) را برای گرههای پیشرفته داد. این مطالعه به طور سیستماتیک جنبههای زیر پشتههای GeO2/Ge را تجزیه و تحلیل میکند که ویژگیها و اصول واکنش سیستم را روشن میکند: تخریب GeO2/Ge، تکنیکهای غیرفعالسازی GeO، سینتیک دفع GeO از GeO2/Ge، رابطه بین تبلور GeO2 و واکنش رابط GeO2/Ge، و سینتیک اکسیداسیون Ge. بر اساس یافتههای حاصل از ویژگیهای ذاتی GeO2/Ge، نویسنده همچنین آن را با سیستمهای رایج SiO2/Si مقایسه میکند و تفاوتهای اساسی بین این دو را نشان میدهد که به کنترل کیفیت، بهینهسازی فرآیند و پیشرفتهای فناوری GeO2/Ge کمک میکند. این کتاب مرجع مفیدی برای محققان، متخصصان و دانشجویان علاقه مند به مواد الکترونیکی، فیزیک ماده کندانسور، مهندسی میکروالکترونیک و نیمه هادی ها خواهد بود.
tag : دانلود کتاب مطالعات جنبشی در سیستم GeO2/Ge: نگاهی به گذشته از سال 2021 , Download مطالعات جنبشی در سیستم GeO2/Ge: نگاهی به گذشته از سال 2021 , دانلود مطالعات جنبشی در سیستم GeO2/Ge: نگاهی به گذشته از سال 2021 , Download Kinetic Studies in GeO2/Ge System: A Retrospective from 2021 Book , مطالعات جنبشی در سیستم GeO2/Ge: نگاهی به گذشته از سال 2021 دانلود , buy مطالعات جنبشی در سیستم GeO2/Ge: نگاهی به گذشته از سال 2021 , خرید کتاب مطالعات جنبشی در سیستم GeO2/Ge: نگاهی به گذشته از سال 2021 , دانلود کتاب Kinetic Studies in GeO2/Ge System: A Retrospective from 2021 , کتاب Kinetic Studies in GeO2/Ge System: A Retrospective from 2021 , دانلود Kinetic Studies in GeO2/Ge System: A Retrospective from 2021 , خرید Kinetic Studies in GeO2/Ge System: A Retrospective from 2021 , خرید کتاب Kinetic Studies in GeO2/Ge System: A Retrospective from 2021 ,
نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.