دانلود کتاب Dry Etching Technology for Semiconductors – فناوری اچینگ خشک برای نیمه هادی ها

دسته بندی :
اطلاعات کتاب
  • جلد
  • سری
  • ویرایش 1
  • سال 2015
  • نویسنده (گان) Kazuo Nojiri (auth.)
  • ناشر Springer International Publishing
  • زبان English
  • تعداد صفحات
  • حجم فایل 10.3MB
  • فرمت فایل pdf
  • شابک 9783319102948, 9783319102955
قیمت محصول :

45,000 تومان

با خرید این محصول، 2,250 تومان به کیف پول شما بازگشت داده می‌شود

روند خرید و دریافت کتاب‌ها بدون هیچ اختلالی انجام می‌شود.
تمامی فایل‌ها بر روی سرورهای داخلی میزبانی می‌شوند تا بتوانید به راحتی و در لحظه آن‌ها را دانلود کنید. در صورت بروز هرگونه مشکل یا نیاز به راهنمایی، لطفاً از طریق « صفحه تماس باما» با تیم پشتیبانی در ارتباط باشید.

تمامی کتاب های موجود در وبسایت سای وان به زبان انگلیسی میباشد

توضیحات

This book is a must-have reference to dry etching technology for semiconductors, which will enable engineers to develop new etching processes for further miniaturization and integration of semiconductor integrated circuits. The author describes the device manufacturing flow, and explains in which part of the flow dry etching is actually used. The content is designed as a practical guide for engineers working at chip makers, equipment suppliers and materials suppliers, and university students studying plasma, focusing on the topics they need most, such as detailed etching processes for each material (Si, SiO2, Metal etc) used in semiconductor devices, etching equipment used in manufacturing fabs, explanation of why a particular plasma source and gas chemistry are used for the etching of each material, and how to develop etching processes. The latest, key technologies are also described, such as 3D IC Etching, Dual Damascene Etching, Low-k Etching, Hi-k/Metal Gate Etching, FinFET Etching, Double Patterning etc.

————————————————————–

ترجمه ماشینی :

این کتاب یک مرجع ضروری به فناوری حکاکی خشک برای نیمه هادی ها است که مهندسان را قادر می سازد تا فرآیندهای حکاکی جدیدی را برای کوچک سازی بیشتر و ادغام مدارهای مجتمع نیمه هادی توسعه دهند. نویسنده جریان تولید دستگاه را توصیف می کند و توضیح می دهد که در کدام بخش از حکاکی خشک جریان در واقع استفاده می شود. این محتوا به عنوان یک راهنمای عملی برای مهندسان شاغل در سازندگان تراشه، تامین کنندگان تجهیزات و تامین کنندگان مواد، و دانشجویان دانشگاهی که پلاسما را مطالعه می کنند، طراحی شده است، با تمرکز بر موضوعاتی که بیشتر به آن نیاز دارند، مانند فرآیندهای حکاکی دقیق برای هر ماده (Si، SiO2، Metal و غیره). ) مورد استفاده در دستگاه های نیمه هادی، تجهیزات اچینگ مورد استفاده در ساخت فابریک ها، توضیح اینکه چرا از یک منبع پلاسما خاص و شیمی گاز برای اچ کردن هر ماده استفاده می شود، و چگونگی توسعه فرآیندهای اچینگ. جدیدترین فناوری‌های کلیدی نیز شرح داده شده‌اند، مانند اچینگ IC 3D، Dual Damascene Etching، Low-k Etching، Hi-k/Metal Gate Etching، FinFET Etching، Double Patterning و غیره.


 

tag : دانلود کتاب فناوری اچینگ خشک برای نیمه هادی ها , Download فناوری اچینگ خشک برای نیمه هادی ها , دانلود فناوری اچینگ خشک برای نیمه هادی ها , Download Dry Etching Technology for Semiconductors Book , فناوری اچینگ خشک برای نیمه هادی ها دانلود , buy فناوری اچینگ خشک برای نیمه هادی ها , خرید کتاب فناوری اچینگ خشک برای نیمه هادی ها , دانلود کتاب Dry Etching Technology for Semiconductors , کتاب Dry Etching Technology for Semiconductors , دانلود Dry Etching Technology for Semiconductors , خرید Dry Etching Technology for Semiconductors , خرید کتاب Dry Etching Technology for Semiconductors ,

نقد و بررسی‌ها

هنوز بررسی‌ای ثبت نشده است.

اولین کسی باشید که دیدگاهی می نویسد “دانلود کتاب Dry Etching Technology for Semiconductors – فناوری اچینگ خشک برای نیمه هادی ها”