دانلود کتاب Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon – دی الکتریک فروالکتریک ادغام شده روی سیلیکون

دسته بندی :
اطلاعات کتاب
  • جلد
  • سری ISTE
  • ویرایش 1
  • سال 2011
  • نویسنده (گان) Emmanuel Defa
  • ناشر Wiley-ISTE
  • زبان English
  • تعداد صفحات
  • حجم فایل 28.71MB
  • فرمت فایل pdf
  • شابک 1848213131, 9781848213135
قیمت محصول :

45,000 تومان

با خرید این محصول، 2,250 تومان به کیف پول شما بازگشت داده می‌شود

روند خرید و دریافت کتاب‌ها بدون هیچ اختلالی انجام می‌شود.
تمامی فایل‌ها بر روی سرورهای داخلی میزبانی می‌شوند تا بتوانید به راحتی و در لحظه آن‌ها را دانلود کنید. در صورت بروز هرگونه مشکل یا نیاز به راهنمایی، لطفاً از طریق « صفحه تماس باما» با تیم پشتیبانی در ارتباط باشید.

تمامی کتاب های موجود در وبسایت سای وان به زبان انگلیسی میباشد

توضیحات

This book describes up-to-date technology applied to high-K materials for More Than Moore applications, i.e. microsystems applied to microelectronics core technologies.
After detailing the basic thermodynamic theory applied to high-K dielectrics thin films including extrinsic effects, this book emphasizes the specificity of thin films. Deposition and patterning technologies are then presented. A whole chapter is dedicated to the major role played in the field by X-Ray Diffraction characterization, and other characterization techniques are also described such as Radio frequency characterization. An in-depth study of the influence of leakage currents is performed together with reliability discussion. Three applicative chapters cover integrated capacitors, variables capacitors and ferroelectric memories. The final chapter deals with a reasonably new research field, multiferroic thin films.

————————————————————–

ترجمه ماشینی :

این کتاب فن‌آوری به‌روزی را که برای مواد با K بالا برای کاربردهای بیش از مور به کار می‌رود، یعنی میکروسیستم‌های بکار رفته در فناوری‌های هسته میکروالکترونیک توصیف می‌کند. این کتاب بر ویژگی لایه های نازک تأکید دارد. سپس فناوری‌های رسوب‌گذاری و الگوسازی ارائه می‌شوند. یک فصل کامل به نقش عمده ای که در این زمینه توسط مشخصه یابی پراش پرتو ایکس ایفا می شود، اختصاص داده شده است، و سایر تکنیک های مشخصه نیز مانند مشخصه یابی فرکانس رادیویی توضیح داده شده است. یک مطالعه عمیق از تأثیر جریان‌های نشتی همراه با بحث قابلیت اطمینان انجام می‌شود. سه فصل کاربردی خازن های یکپارچه، خازن های متغیر و حافظه های فروالکتریک را پوشش می دهد. فصل آخر به یک زمینه تحقیقاتی جدید، یعنی لایه‌های نازک چند فرویی می‌پردازد.


 

tag : دانلود کتاب دی الکتریک فروالکتریک ادغام شده روی سیلیکون , Download دی الکتریک فروالکتریک ادغام شده روی سیلیکون , دانلود دی الکتریک فروالکتریک ادغام شده روی سیلیکون , Download Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon Book , دی الکتریک فروالکتریک ادغام شده روی سیلیکون دانلود , buy دی الکتریک فروالکتریک ادغام شده روی سیلیکون , خرید کتاب دی الکتریک فروالکتریک ادغام شده روی سیلیکون , دانلود کتاب Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon , کتاب Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon , دانلود Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon , خرید Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon , خرید کتاب Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon ,

نقد و بررسی‌ها

هنوز بررسی‌ای ثبت نشده است.

اولین کسی باشید که دیدگاهی می نویسد “دانلود کتاب Ferroelectric Dielectrics Integrated on Silicon – دی الکتریک فروالکتریک ادغام شده روی سیلیکون”