دانلود کتاب Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications, Second Edition – رسوب لایه اتمی: اصول ، ویژگی ها و برنامه های فناوری نانو ، چاپ دوم

توضیحات

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD’s application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.Content:
Chapter 1 Fundamentals of Atomic Layer Deposition (pages 131):
Chapter 2 Elemental Semiconductor Epitaxial Films (pages 3349):
Chapter 3 III?V Semiconductor Films (pages 5166):
Chapter 4 Oxide films (pages 67159):
Chapter 5 Nitrides and Other Compounds (pages 161182):
Chapter 6 Metals (pages 183206):
Chapter 7 Organic and Hybrid Materials (pages 207213):
Chapter 8 ALD Applications and Industry (pages 215242):

————————————————————–

ترجمه ماشینی :

از زمان انتشار نسخه اول در سال 2008 ، رسوب لایه اتمی (ALD) به عنوان یک فناوری قدرتمند و گاه ترجیح داده شده ظاهر شده است. نسخه جدید این مونوگرافی پیشگامانه اولین متنی است که موضوع ALD را به طور جامع از دیدگاه عملی مرور می کند. این برنامه ALD را در میکروالکترونیک (MEMS) و فناوری نانو پوشش می دهد. بسیاری از برنامه های مهم جدید و نوظهور ؛ فرآیندهای حرارتی برای رشد ALD فیلم های ضخیم نانومتر از نیمه هادی ها ، اکسیدها ، فلزات و نیتریدها. و شکل گیری مواد آلی و ترکیبی. CONTENT:
فصل 1 اصول رسوب لایه اتمی (صفحات 131):
فصل 2 فیلم های نیمه هادی Elemiconderal Epitaxial (صفحات 3349):
فصل 3 III؟ V فیلمهای نیمه هادی (صفحات 5166):
فصل 4 فیلم اکسید (صفحات 67159):
فصل 5 نیتریدها و سایر ترکیبات (صفحات 161182):
فصل 6 فلزات (صفحات 183206):
فصل 7 ارگانیک و هیبرید مواد (صفحات 207213):
فصل 8 برنامه های کاربردی و صنعت ALD (صفحات 215242):

tag : دانلود کتاب رسوب لایه اتمی: اصول ، ویژگی ها و برنامه های فناوری نانو ، چاپ دوم , Download رسوب لایه اتمی: اصول ، ویژگی ها و برنامه های فناوری نانو ، چاپ دوم , دانلود رسوب لایه اتمی: اصول ، ویژگی ها و برنامه های فناوری نانو ، چاپ دوم , Download Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications, Second Edition Book , رسوب لایه اتمی: اصول ، ویژگی ها و برنامه های فناوری نانو ، چاپ دوم دانلود , buy رسوب لایه اتمی: اصول ، ویژگی ها و برنامه های فناوری نانو ، چاپ دوم , خرید کتاب رسوب لایه اتمی: اصول ، ویژگی ها و برنامه های فناوری نانو ، چاپ دوم , دانلود کتاب Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications, Second Edition , کتاب Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications, Second Edition , دانلود Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications, Second Edition , خرید Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications, Second Edition , خرید کتاب Atomic Layer Deposition: Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications, Second Edition ,