توضیحات
A Unified Summary of the Models and Optimization Methods Used in Computational Lithography
Optical lithography is one of the most challenging areas of current integrated circuit manufacturing technology. The semiconductor industry is relying more on resolution enhancement techniques (RETs), since their implementation does not require significant changes in fabrication infrastructure. Computational Lithography is the first book to address the computational optimization of RETs in optical lithography, providing an in-depth discussion of optimal optical proximity correction (OPC), phase shifting mask (PSM), and off-axis illumination (OAI) RET tools that use model-based mathematical optimization approaches.
The book starts with an introduction to optical lithography systems, electric magnetic field principles, and the fundamentals of optimization from a mathematical point of view. It goes on to describe in detail different types of optimization algorithms to implement RETs. Most of the algorithms developed are based on the application of the OPC, PSM, and OAI approaches and their combinations. Algorithms for coherent illumination as well as partially coherent illumination systems are described, and numerous simulations are offered to illustrate the effectiveness of the algorithms. In addition, mathematical derivations of all optimization frameworks are presented.
The accompanying MATLAB software files for all the RET methods described in the book make it easy for readers to run and investigate the codes in order to understand and apply the optimization algorithms, as well as to design a set of optimal lithography masks. The codes may also be used by readers for their research and development activities in their academic or industrial organizations. An accompanying MATLAB software guide is also included. An accompanying MATLAB software guide is included, and readers can download the software to use with the guide at ftp://ftp.wiley.com/public/sci_tech_med/computational_lithography.
Tailored for both entry-level and experienced readers, Computational Lithography is meant for faculty, graduate students, and researchers, as well as scientists and engineers in industrial organizations whose research or career field is semiconductor IC fabrication, optical lithography, and RETs. Computational lithography draws from the rich theory of inverse problems, optics, optimization, and computational imaging; as such, the book is also directed to researchers and practitioners in these fields
————————————————————–
ترجمه ماشینی :
خلاصه یکپارچه مدلها و روشهای بهینهسازی مورد استفاده در لیتوگرافی محاسباتی
لیتوگرافی نوری یکی از چالشبرانگیزترین حوزههای فناوری ساخت مدار مجتمع فعلی است. صنعت نیمه هادی بیشتر بر تکنیک های افزایش وضوح (RETs) تکیه می کند، زیرا اجرای آنها به تغییرات قابل توجهی در زیرساخت ساخت نیاز ندارد. لیتوگرافی محاسباتی اولین کتابی است که به بهینه سازی محاسباتی RET ها در لیتوگرافی نوری می پردازد و بحث عمیقی از تصحیح مجاورت نوری بهینه (OPC)، ماسک تغییر فاز (PSM) و خارج از محور ارائه می کند. ابزارهای RET روشنایی (OAI) که از رویکردهای بهینهسازی ریاضی مبتنی بر مدل استفاده میکنند.
این کتاب با مقدمهای بر سیستمهای لیتوگرافی نوری، اصول میدان مغناطیسی الکتریکی و اصول بهینهسازی از دیدگاه ریاضی آغاز میشود. در ادامه به تشریح جزئیات انواع مختلف الگوریتم های بهینه سازی برای پیاده سازی RET می پردازد. بیشتر الگوریتمهای توسعهیافته مبتنی بر کاربرد رویکردهای OPC، PSM و OAI و ترکیبهای آنها هستند. الگوریتمهایی برای روشنایی منسجم و همچنین سیستمهای روشنایی تا حدی منسجم شرح داده شدهاند و شبیهسازیهای متعددی برای نشان دادن اثربخشی الگوریتمها ارائه شدهاند. علاوه بر این، مشتقات ریاضی همه چارچوبهای بهینهسازی ارائه شده است.
فایلهای همراه نرمافزار MATLAB برای تمام روشهای RET شرحدادهشده در کتاب، اجرای و بررسی کدها را برای خوانندگان به منظور درک و اعمال الگوریتمهای بهینهسازی آسان میکند. و همچنین طراحی مجموعه ای از ماسک های لیتوگرافی بهینه. این کدها همچنین ممکن است توسط خوانندگان برای فعالیت های تحقیق و توسعه در سازمان های دانشگاهی یا صنعتی خود استفاده شود. راهنمای نرم افزار MATLAB به همراه آن نیز موجود است. راهنمای نرمافزار MATLAB همراه همراه است، و خوانندگان میتوانند نرمافزار را برای استفاده همراه با راهنما در آدرس ftp://ftp.wiley.com/public/sci_tech_med/computational_lithography دانلود کنند.
برای خوانندگان سطح ابتدایی و با تجربه طراحی شده است، < i>لیتوگرافی محاسباتی برای اساتید، دانشجویان فارغ التحصیل و محققان و همچنین دانشمندان و مهندسان در سازمان های صنعتی که زمینه تحقیقاتی یا شغلی آنها ساخت آی سی نیمه هادی، لیتوگرافی نوری و RET است، در نظر گرفته شده است. لیتوگرافی محاسباتی از نظریه غنی مسائل معکوس، اپتیک، بهینه سازی و تصویربرداری محاسباتی نشأت می گیرد. به این ترتیب، این کتاب همچنین برای محققان و دست اندرکاران این حوزه ها ارسال شده است
tag : دانلود کتاب لیتوگرافی محاسباتی , Download لیتوگرافی محاسباتی , دانلود لیتوگرافی محاسباتی , Download Computational Lithography Book , لیتوگرافی محاسباتی دانلود , buy لیتوگرافی محاسباتی , خرید کتاب لیتوگرافی محاسباتی , دانلود کتاب Computational Lithography , کتاب Computational Lithography , دانلود Computational Lithography , خرید Computational Lithography , خرید کتاب Computational Lithography ,
نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.