توضیحات
This book covers the many aspects of lithographic technology that needed to be addressed in order to make EUV lithography ready for high-volume manufacturing: exposure tools, light sources, masks, resists, process control, metrology, and computational lithography. Lithography costs, which have often influenced the areas of technical focus, are discussed. Potential improvements to current EUV technology and extensions to future nodes are also covered. Each topic is approached from the perspective of a practicing lithographer in a wafer fab, in either manufacturing or development, and there are many references at the end of each chapter.
————————————————————–
ترجمه ماشینی :
این کتاب بسیاری از جنبههای فناوری لیتوگرافی را پوشش میدهد که برای آمادهسازی لیتوگرافی EUV برای تولید با حجم بالا لازم است: ابزارهای نوردهی، منابع نور، ماسکها، مقاومتها، کنترل فرآیند، اندازهشناسی، و لیتوگرافی محاسباتی. هزینههای لیتوگرافی، که اغلب بر حوزههای تمرکز فنی تأثیر گذاشتهاند، مورد بحث قرار میگیرند. بهبودهای بالقوه در فناوری EUV فعلی و گسترش گره های آینده نیز پوشش داده شده است. هر موضوع از دیدگاه یک لیتوگراف شاغل در یک کارخانه ویفر، چه در ساخت و چه در توسعه، مورد بررسی قرار می گیرد و در پایان هر فصل مراجع زیادی وجود دارد.
tag : دانلود کتاب لیتوگرافی فرابنفش شدید , Download لیتوگرافی فرابنفش شدید , دانلود لیتوگرافی فرابنفش شدید , Download Extreme Ultraviolet Lithography Book , لیتوگرافی فرابنفش شدید دانلود , buy لیتوگرافی فرابنفش شدید , خرید کتاب لیتوگرافی فرابنفش شدید , دانلود کتاب Extreme Ultraviolet Lithography , کتاب Extreme Ultraviolet Lithography , دانلود Extreme Ultraviolet Lithography , خرید Extreme Ultraviolet Lithography , خرید کتاب Extreme Ultraviolet Lithography ,
نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.