دانلود کتاب Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories: Device Physics and Applications – حافظه های ترانزیستوری اثر میدان فروالکتریک گیت: فیزیک دستگاه و کاربردها

دسته بندی :
اطلاعات کتاب
  • جلد
  • سری Topics in Applied Physics (131)
  • ویرایش 2nd ed. 2020
  • سال 2020
  • نویسنده (گان) Byung-Eun Park (editor), Hiroshi Ishiwara (editor), Masanori Okuyama (editor), Shigeki Sakai (editor), Sung-Min Yoon (editor)
  • ناشر Springer
  • زبان English
  • تعداد صفحات 421
  • حجم فایل 22.6MB
  • فرمت فایل pdf
  • شابک 9811512116, 9789811512117
قیمت محصول :

45,000 تومان

با خرید این محصول، 2,250 تومان به کیف پول شما بازگشت داده می‌شود

روند خرید و دریافت کتاب‌ها بدون هیچ اختلالی انجام می‌شود.
تمامی فایل‌ها بر روی سرورهای داخلی میزبانی می‌شوند تا بتوانید به راحتی و در لحظه آن‌ها را دانلود کنید. در صورت بروز هرگونه مشکل یا نیاز به راهنمایی، لطفاً از طریق « صفحه تماس باما» با تیم پشتیبانی در ارتباط باشید.

تمامی کتاب های موجود در وبسایت سای وان به زبان انگلیسی میباشد

توضیحات

This book provides comprehensive coverage of the materials characteristics, process technologies, and device operations for memory field-effect transistors employing inorganic or organic ferroelectric thin films. This transistor-type ferroelectric memory has interesting fundamental device physics and potentially large industrial impact.

Among various applications of ferroelectric thin films, the development of nonvolatile ferroelectric random access memory (FeRAM) has been most actively progressed since the late 1980s and reached modest mass production for specific application since 1995. There are two types of memory cells in ferroelectric nonvolatile memories. One is the capacitor-type FeRAM and the other is the field-effect transistor (FET)-type FeRAM. Although the FET-type FeRAM claims the ultimate scalability and nondestructive readout characteristics, the capacitor-type FeRAMs have been the main interest for the major semiconductor memory companies, because the ferroelectric FET has fatal handicaps of cross-talk for random accessibility and short retention time.

This book aims to provide the readers with development history, technical issues, fabrication methodologies, and promising applications of FET-type ferroelectric memory devices, presenting a comprehensive review of past, present, and future technologies. The topics discussed will lead to further advances in large-area electronics implemented on glass, plastic or paper substrates as well as in conventional Si electronics.

The book is composed of chapters written by leading researchers in ferroelectric materials and related device technologies, including oxide and organic ferroelectric thin films.

————————————————————–

ترجمه ماشینی :

این کتاب پوشش جامعی از ویژگی‌های مواد، فناوری‌های فرآیند و عملیات دستگاه برای ترانزیستورهای اثر میدان حافظه با استفاده از لایه‌های نازک فروالکتریک معدنی یا آلی ارائه می‌کند. این حافظه فروالکتریک از نوع ترانزیستوری دارای فیزیک اساسی دستگاه و تأثیر صنعتی بالقوه بزرگی است.

در میان کاربردهای مختلف لایه‌های نازک فروالکتریک، توسعه حافظه دسترسی تصادفی فروالکتریک غیرفرار (FeRAM) به طور فعال از زمان گذشته پیشرفت کرده است. اواخر دهه 1980 و از سال 1995 به تولید انبوه متوسط برای کاربردهای خاص رسید. دو نوع سلول حافظه در حافظه های غیرفرار فروالکتریک وجود دارد. یکی از نوع خازن FeRAM و دیگری ترانزیستور اثر میدانی (FET) از نوع FeRAM است. اگرچه FeRAM نوع FET مدعی مقیاس پذیری نهایی و ویژگی های بازخوانی غیرمخرب است، FeRAM های نوع خازن مورد توجه شرکت های بزرگ حافظه های نیمه هادی بوده اند، زیرا FET فروالکتریک دارای نقص های کشنده در گفتگوی متقابل برای دسترسی تصادفی و زمان نگهداری کوتاه است. .

هدف این کتاب ارائه تاریخچه توسعه، مسائل فنی، روش‌شناسی ساخت، و کاربردهای امیدوارکننده دستگاه‌های حافظه فروالکتریک نوع FET، ارائه مروری جامع از فناوری‌های گذشته، حال و آینده است. موضوعات مورد بحث منجر به پیشرفت‌های بیشتر در الکترونیک با مساحت بزرگ که بر روی لایه‌های شیشه، پلاستیک یا کاغذ و همچنین در الکترونیک Si معمولی اجرا می‌شود، می‌شود.

این کتاب از فصول نوشته شده توسط محققان برجسته در مواد فروالکتریک و فروالکتریک تشکیل شده است. فن آوری های دستگاه های مرتبط، از جمله لایه های نازک اکسید و فروالکتریک آلی.


 

tag : دانلود کتاب حافظه های ترانزیستوری اثر میدان فروالکتریک گیت: فیزیک دستگاه و کاربردها , Download حافظه های ترانزیستوری اثر میدان فروالکتریک گیت: فیزیک دستگاه و کاربردها , دانلود حافظه های ترانزیستوری اثر میدان فروالکتریک گیت: فیزیک دستگاه و کاربردها , Download Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories: Device Physics and Applications Book , حافظه های ترانزیستوری اثر میدان فروالکتریک گیت: فیزیک دستگاه و کاربردها دانلود , buy حافظه های ترانزیستوری اثر میدان فروالکتریک گیت: فیزیک دستگاه و کاربردها , خرید کتاب حافظه های ترانزیستوری اثر میدان فروالکتریک گیت: فیزیک دستگاه و کاربردها , دانلود کتاب Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories: Device Physics and Applications , کتاب Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories: Device Physics and Applications , دانلود Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories: Device Physics and Applications , خرید Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories: Device Physics and Applications , خرید کتاب Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories: Device Physics and Applications ,

نقد و بررسی‌ها

هنوز بررسی‌ای ثبت نشده است.

اولین کسی باشید که دیدگاهی می نویسد “دانلود کتاب Ferroelectric-Gate Field Effect Transistor Memories: Device Physics and Applications – حافظه های ترانزیستوری اثر میدان فروالکتریک گیت: فیزیک دستگاه و کاربردها”