توضیحات
This book provides a systematic description and analysis of laser heat-mode lithography, addressing the basic principles, lithography system, manipulation of feature size, grayscale lithography, resist thin films, and pattern transfer, while also presenting typical experimental results and applications. It introduces laser heat-mode lithography, where the resist thin films are essentially an opto-thermal response to the laser beam with changeable wavelength and are not sensitive to laser wavelength. Laser heat-mode lithography techniques greatly simplify production procedures because they require neither a particular light source nor a particular environment; further, there are no pre-baking and post-baking steps required for organic photoresists. The pattern feature size can be either larger or smaller than the laser spot by adjusting the writing strategy. The lithographic feature size can also be arbitrarily tuned from nanoscale to micrometer without changing the laser spot size. Lastly, the line edge roughness can be controlled at a very low value because the etching process is a process of breaking bonds among atoms. The book offers an invaluable reference guide for all advanced undergraduates, graduate students, researchers and engineers working in the fields of nanofabrication, lithography techniques and systems, phase change materials, etc.
————————————————————–
ترجمه ماشینی :
این کتاب توضیحات و تجزیه و تحلیل سیستماتیک از لیتوگرافی حالت گرما لیزر ، پرداختن به اصول اساسی ، سیستم لیتوگرافی ، دستکاری در اندازه ویژگی ، سنگ فرش خاکستری ، مقاومت در برابر فیلمهای نازک و انتقال الگوی را ارائه می دهد ، ضمن اینکه تجربی معمولی را نیز ارائه می دهد نتایج و برنامه ها. این لیتوگرافی با حالت گرمای لیزر را معرفی می کند ، جایی که فیلم های نازک مقاومت در واقع یک پاسخ بی ثمر به پرتو لیزر با طول موج قابل تغییر هستند و نسبت به طول موج لیزر حساس نیستند. تکنیک های لیتوگرافی حالت حرارتی لیزر روشهای تولید را تا حد زیادی ساده می کند زیرا به نه منبع نور خاص و نه یک محیط خاص نیاز دارند. علاوه بر این ، هیچ مراحل قبل از پخت و پخت و پز لازم برای عکسبرداران ارگانیک وجود ندارد. اندازه ویژگی الگوی با تنظیم استراتژی نوشتن می تواند بزرگتر یا کوچکتر از نقطه لیزر باشد. اندازه ویژگی لیتوگرافی همچنین می تواند به طور خودسرانه از نانو به میکرومتر بدون تغییر اندازه لکه لیزر تنظیم شود. سرانجام ، زبری لبه خط را می توان با ارزش بسیار کمی کنترل کرد زیرا فرآیند اچینگ فرآیند شکستن پیوندها در بین اتم ها است. این کتاب یک راهنمای مرجع ارزشمند برای کلیه دانش آموختگان پیشرفته ، دانشجویان فارغ التحصیل ، محققان و مهندسان شاغل در زمینه های نانوساختار ، تکنیک ها و سیستم های لیتوگرافی ، مواد تغییر فاز و غیره ارائه می دهد.
tag : دانلود کتاب لیتوگرافی حالت گرما لیزر: اصل و روشها , Download لیتوگرافی حالت گرما لیزر: اصل و روشها , دانلود لیتوگرافی حالت گرما لیزر: اصل و روشها , Download Laser Heat-Mode Lithography: Principle and Methods Book , لیتوگرافی حالت گرما لیزر: اصل و روشها دانلود , buy لیتوگرافی حالت گرما لیزر: اصل و روشها , خرید کتاب لیتوگرافی حالت گرما لیزر: اصل و روشها , دانلود کتاب Laser Heat-Mode Lithography: Principle and Methods , کتاب Laser Heat-Mode Lithography: Principle and Methods , دانلود Laser Heat-Mode Lithography: Principle and Methods , خرید Laser Heat-Mode Lithography: Principle and Methods , خرید کتاب Laser Heat-Mode Lithography: Principle and Methods ,
نقد و بررسیها
هنوز بررسیای ثبت نشده است.