توضیحات
This book provides a comprehensive analysis of the science, technology, and applications of Tantalum and Niobium-based capacitors. The author discusses fundamentals, focusing on thermodynamic stability, major degradation processes and conduction mechanisms in the basic structure of Me-Me2O5-cathode (Me: Ta, Nb). Technology-related coverage includes chapters technology chapters on the major manufacturing steps from capacitor grade powder to the testing of finished capacitors. Applications discussed include high reliability, high charge and energy efficiency, high working voltages, high temperatures, etc. The links between the scientific foundation, breakthrough technologies and outstanding performance and reliability of the capacitors are demonstrated. The theoretical models discussed include the thermodynamics of the amorphous dielectrics, conduction mechanisms in metal-insulator-semiconductor (MIS) structures, band diagrams of the organic semiconductors, etc. Provides a single-source reference to the science, technology, and applications of Tantalum and Niobium-based capacitors; Focuses on Polymer Tantalum capacitors, with rapidly growing applications in special and commercial electronics; Discusses in detail conduction and degradation mechanisms in amorphous dielectrics and multilayer capacitor structures with amorphous dielectrics, such as metal-insulator-semiconductor (MIS) structures with inorganic and organic semiconductors, as well as MOSFET transistors with high k dielectrics.;Introduction — Chap1: Major Degradation Mechanisms — Chap2: Basic Technology — Chap3: Applications — Conclusion.
————————————————————–
ترجمه ماشینی :
این کتاب تجزیه و تحلیل کاملی از علم ، فناوری و کاربردهای خازن های مبتنی بر Tantalum و Niobium ارائه می دهد. نویسنده در مورد اصول ، با تمرکز بر ثبات ترمودینامیکی ، فرآیندهای عمده تخریب و مکانیسم های هدایت در ساختار اساسی ME-ME2O5-Cathode بحث می کند (ME: TA ، NB). پوشش مربوط به فناوری شامل فصل های فن آوری فصل در مراحل اصلی تولید از پودر درجه خازن تا آزمایش خازن های تمام شده است. برنامه های مورد بحث شامل قابلیت اطمینان ، بار بالا و بهره وری انرژی ، ولتاژ کار بالا ، درجه حرارت بالا و غیره است. پیوندهای بین بنیاد علمی ، فناوری های دستیابی به موفقیت و عملکرد و قابلیت اطمینان و قابلیت اطمینان خازن ها نشان داده شده است. مدلهای نظری مورد بحث شامل ترمودینامیک دی الکتریک آمورف ، مکانیسم های هدایت در ساختارهای فلزی-انسداد کننده-سماند (MIS) ، نمودارهای باند نیمه هادی های آلی و غیره است. و خازن های مبتنی بر Niobium ؛ تمرکز بر روی خازن های تانتالوم پلیمری ، با کاربردهای به سرعت در حال رشد در الکترونیک ویژه و تجاری. در مورد مکانیسم های هدایت و تخریب مفصل در دی الکتریک های آمورف و ساختارهای خازن چند لایه با دی الکتریک آمورف ، مانند ساختارهای فلزی-انسداد کننده-سامیایی (MIS) با نیمه هادی های معدنی و آلی و همچنین ترانزیستورهای MOSFET با دی الکتریک K بالا بحث می کند. : مکانیسم های تخریب عمده – Chap2: فناوری اساسی – Chap3: برنامه ها – نتیجه گیری.
tag : دانلود کتاب خازن های مبتنی بر Tantalum و Niobium: علوم ، فناوری و برنامه ها , Download خازن های مبتنی بر Tantalum و Niobium: علوم ، فناوری و برنامه ها , دانلود خازن های مبتنی بر Tantalum و Niobium: علوم ، فناوری و برنامه ها , Download Tantalum and Niobium-Based Capacitors: Science, Technology, and Applications Book , خازن های مبتنی بر Tantalum و Niobium: علوم ، فناوری و برنامه ها دانلود , buy خازن های مبتنی بر Tantalum و Niobium: علوم ، فناوری و برنامه ها , خرید کتاب خازن های مبتنی بر Tantalum و Niobium: علوم ، فناوری و برنامه ها , دانلود کتاب Tantalum and Niobium-Based Capacitors: Science, Technology, and Applications , کتاب Tantalum and Niobium-Based Capacitors: Science, Technology, and Applications , دانلود Tantalum and Niobium-Based Capacitors: Science, Technology, and Applications , خرید Tantalum and Niobium-Based Capacitors: Science, Technology, and Applications , خرید کتاب Tantalum and Niobium-Based Capacitors: Science, Technology, and Applications ,
دیدگاهها
هیچ دیدگاهی برای این محصول نوشته نشده است.